詳細(xì)內(nèi)容：產(chǎn)品特點(diǎn): 采用頻率為數(shù)十千赫茲的中頻電源，配備經(jīng)過嚴(yán)格磁路設(shè)計(jì)的孿生靶（對(duì)靶），可以避免“打火”、“陽極消失”、“靶中毒”等現(xiàn)象，提高了離化率、濺射速率，顯著提高沉積速度，適合做化合物薄膜（如TiO2、TiN、TiC、TiCN、TiAlN等）的沉積。中頻磁控離子鍍膜機(jī)在近幾年得到了迅猛的發(fā)展，在鐘表、眼鏡、五金等裝飾度領(lǐng)域得到廣泛的應(yīng)用。 技術(shù)參數(shù): ▲真空室箱體：主要規(guī)格有800*1000mm、1000*1200mm，并可以根據(jù)客戶具體要求設(shè)計(jì)非標(biāo)產(chǎn)品。 ▲夾具方式：采用公自轉(zhuǎn)行星式齒輪結(jié)構(gòu)，工件速度在1-15轉(zhuǎn)/分鐘可調(diào)。 ▲控制氣體方式：采用質(zhì)量流量計(jì)控制，進(jìn)氣穩(wěn)定，反應(yīng)速度快。 ▲靶：采用整體制造技術(shù)，嚴(yán)格縝密的磁場設(shè)計(jì)和磁路布局，濺射刻蝕均勻。 ▲電源：配置有中頻電源（20KW、40KW等規(guī)格）、直流脈沖電源（電壓、占空比可調(diào)節(jié)），并可根據(jù)實(shí)際的情況加裝離子源等輔助設(shè)施。 ▲抽氣系統(tǒng)：采用國產(chǎn)品牌機(jī)械泵、羅茨泵、擴(kuò)散泵，根據(jù)其真空室大小確定合理型號(hào)。也可以根據(jù)客戶的需要配備分子泵或者進(jìn)口泵等。 ▲抽真空參數(shù)：從大氣抽至5*10‾³Pa≤15min極限真空度8*10‾4Pa。